Statesch UV Laser Marquage Machine Fir Fläsch
Eegeschaften
1.High-Quality Laser Light Source, High Beam Quality, Small Focusing Spot, More Fein and Clear.
2.Fast Markéierungsgeschwindegkeet an héich Effizienz.
3.Small Hëtzt-betraff Beräich, Nee Hëtzt Effekt, Material wäert net deforméiert ginn, beschiedegt oder verbrannt.
4.Wide Palette vun applicabel Materialien, gëeegent fir Material mat grousser Hëtzt Stralung Response.
5.No Verbrauchsmaterial an Ënnerhalt, Niddereg Energieverbrauch a Käschte spueren.
Uwendbar Materialien
Fein Markéierung vu spezielle Materialien gëtt haaptsächlech benotzt fir d'Markéierung an d'Uewerflächenbehandlung vu verschiddene Glas, LCD Schiirme, Textilien, Dënn Keramik, Semiconductor Silicon Wafers, IC Kären, Saphir, Polymer Filmer an aner Materialien.
Applikatioun Industrie
Haaptsächlech benotzt am High-End Maart vun Ultra-fein Veraarbechtung, 3C Industrie Markéierung, Markéierung vun Elektronesche Komponenten, Elektresch Enclosures, Markéierung vu Verpackungsfläschen fir Liewensmëttel, Medizin an aner Polymermaterialien;Ewechhuele vu Metall oder Net-Metalesch Beschichtungen;Flexibel PCB Brieder, Wierfel;Silicon Wafer Mikro-Lach a Blind Lach Veraarbechtung;LCD Liquid Crystal Glass Zweedimensional Code Marquage, Glas Surface Hole Drilling, Plastik Schlësselen, Elektronesch Komponenten, Kaddoen, Kommunikatiounsausrüstung, Baumaterial, asw.